光化学离子反应除臭设备描述

一、废气处理利用高能高臭氧UV紫外线光束照射恶臭气体物质分子键，裂解恶臭气体物质如：氨、甲硫氢、二硫化碳和，硫化物H2S、VOC类，苯的分子键，使呈游离状态的污染物原子与臭氧氧化聚合成小分子无害或低害物质，如CO2、H2O等。

二、利用高能高臭氧UV紫外线光束分解空气中的氧分子产生游离氧，即活性氧，因游离氧所携正负电子不平衡所以需与氧分子结合，进而生成臭氧；臭氧与呈游离状态污染物质原子聚合，生成新的、无害或低害物质，如CO2、H2O等，同时，臭氧对有机物具有*的氧化作用，对恶臭气体及其它刺激性异味有清除效果。

三、恶臭气体（工业废气）利用排风设备输入到本UV光解净化设备后，净化设备运用高能UV紫外线光束及臭氧对恶臭气体进行协同裂解、氧化反应，使恶臭气体物质其降解转化成低分子化合物、水和二氧化碳，再通过排风管道排出室外。

      四、利用高能UV光束裂解恶臭气体中细菌的分子键，破坏细菌的核酸（DNA），再通过臭氧进行氧化反应，达到脱臭及杀灭细菌的目的。

五、适用范围：炼油厂、橡胶厂、化工厂、制药厂、污水处理厂、垃圾转运站等恶臭气体的脱臭净化处理。

光化学离子反应除臭设备性能综述

一、高效除恶臭：能高效去除挥发性有机物（VOC）、无机物、、氨气、硫醇类等主要污染物，以及各种恶臭味，脱臭效率可达99.9%以上，脱臭效果大大超过国家1993年颁布的恶臭污染物排放标准（GB14554-93）。

二、无需添加任何物质：只需要设置相应的排风管道和排风动力，使恶臭气体通过本设备进行脱臭分解净化，无需添加任何物质参与化学反应。

三、适应性强：可适应高浓度，大气量，不同恶臭气体物质的脱臭净化处理，可每天24小时连续工作，运行稳定可靠。

四、运行成本低：本设备无任何机械动作，无噪音，无需专人管理和日常维护，只需作定期检查，本设备能耗低，（每处理1000立方米/小时，仅耗电约0.1度电能），设备风阻极低＜30pa，可节约大量排风动力能耗。

五、无需预处理：恶臭气体无需进行特殊的预处理，如加温、加湿等，设备工作环境温度在摄氏-30o − 95o 之间，湿度在40% − 98% 之间均可正常工作。＜1平方米/处理10000m3/h风量。

六、优质防腐材料制造：防火、防腐蚀性能高，性能稳定，使用寿命长。