万喜堂彩票注册网站 PI亚胺化厌氧炉，PI真空厌氧烤箱

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PI固化炉用于光刻胶BCB，聚酰亚胺PI/CPI固化，LCP纤维热处理，晶圆干燥烘烤等工艺，主要用于集成电路、化合物半导体、MEMS微机电、TFT/LCD等半导体相关行业。

通用性，全自动运行真空固化，2寸-12寸/碎片兼容。

保证性强，可达5PPM氧气下实现真空固化。

时效性，多功能冷却方式，缩短了工艺时间，降低成本，提高生产能力。

能耗低，真空状态固化，节约了80%N₂量。

无污染，腔体内部所有材料均为316L科研级不锈钢，无任何颗粒产生。

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温度：RT-350/450度

真空度：低于100Pa

操作：彩色人机界面，一键运行

冷却方式：水冷却+风冷

气路：2路N2

程序模式：程序运行10个，每个程序可设置25步

隔热材料：陶瓷纤维

工作腔 ：1/2/4/8可选

PI亚胺化厌氧炉工艺要求 （参考）：

1. 在低氧状态下使用

2. 真空加热，升温至1xx℃

3. 再温至1xx℃(约xh),保温约 30min;

4. 继续升温至x00℃，视涂层厚度不同加热10-x0min

5. 保温 约60min；

6. 降温至100℃以下