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万喜堂app下载网页版 高真空快速CVD系统OTF-1200X-4-RTP-C3HV

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产品型号

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厂商性质其他

所  在  地 沈阳市

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更新时间:2023-02-26 14:00:59 浏览次数:130次

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所在地区:辽宁沈阳市

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产品简介

万喜堂app下载网页版 高真空快速CVD系统OTF-1200X-4-RTP-C3HV

详细介绍

产品简介: 高真空快速 CVD 系统 OTF-1200X-4-RTP-C3HV 是由 4 ″RTP 炉、三通道混气系统和高真空机组组成, 可进行半导体基片、太阳能电池及其它样品(尺寸可达 3″ )的退火,并采用 10KW 的红外灯进行加热,升温速度可达 120 /s ,配有 RS485 接口,可以通过控制软件在计算机上控制运行并显示温度曲线。

产品型号

高真空快速 CVD 系统 OTF-1200X-4-RTP-C3HV

安装条件

本设备要求在海拔1000m以下,温度25℃±15℃,湿度55%Rh±10%Rh下使用。

1、水:不需要

2、电:AC220V 50Hz,必须有良好接地

3、气:设备腔室内需充注气体,需自备气瓶气源

4、工作台:尺寸1600mm×600mm×700mm,承重150kg以上

5、通风装置:需要

主要特点

1 Al 2 O 3 纤维钢构,无需水冷或风冷。

2 内炉 膛表面涂有进口高温氧化铝涂层,可以提高设备的加热效率及延长仪器的使用寿命。

3 PID 制器 ,可以设置 30 段升降温程序,并设有过热保护和断偶功能。

4 通过 CE 认证。

技术参数

1 电源:单相 208V-240V AC  50Hz/60Hz  10KW

2 、石英管: 外径 Ø 110mm ,内径 Ø 103mm ,长 380mm

3 、加热元件: 8 根红外灯管,灯丝长 200mm ,丝圈 Ø 10mm ,灯长 300mm

4 、加热区: 300mm

5 工作温度:温度 1100

6 控温精度:± 0.5

7 、升温速度: RT-800 ℃时为 50 /s 800 -1000 ℃时为 10 /s

8 、温控仪:可控硅( SCR PID 自动控制

9 真空 法兰:不锈钢,带有水冷接口和针阀,双层高温 O 型圈密封,长时间在 >900 ℃条件下运行必须 采用水 冷,循环 水流量为 0.5m 3 /hr

10 、真空度: 10 -2 torr (机械泵), 10 -5 torr (分子泵)

11 质量流 量计: 3 个, MFC1 范围 0-100sccm MFC2 范围 0-200sccm MFC3 范围 0-500sccm ,精度 1 ± %FS

12 气罐: Ø 80mm × 120mm

产品规格

尺寸:炉体 760mm × 330mm × 530mm ,真空混气系统 600mm × 600mm × 597mm

重量:炉体 45kg ,真空混气系统 75kg


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