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简要描述: Rigaku ZSX Primus 400 连续波长色散 X 射线荧光 (WDXRF) 光谱仪为处理非常大或重的样品而设计
荧光光谱仪" alt="连续波长色散X射线荧光光谱仪" width="800" height="610" border="0" vspace="0" style="box-sizing: border-box; padding: 0px; margin: 0px; display: inline-block; vertical-align: middle; border: ; max-width: 99%; width: 800px; height: 610px;">
Rigaku 的 ZSX Primus 400 连续波长色散 X 射线荧光 (WDXRF) 光谱仪为处理非常大或重的样品而设计。该系统可接受直径大为 400 毫米、厚度为 50 毫米和质量为 30 千克的样品,非常适合分析溅射靶材、磁盘,或用于多层薄膜计量或大型样品的元素分析。
优点
带有定制样品适配器系统的 XRF ,适应特定样品分析需求的多功能性,可使用可选适配器插件适应各种样品尺寸和形状。凭借可变测量点(直径 30 毫米至 0.5 毫米,具有 5 步自动选择)和具有多点测量的映射功能以检查样品均匀性。
具有可用相机和特殊照明的 XRF ,可选的实时摄像头允许在软件中查看分析区域。
仍保留了传统仪器的所有分析能力。
安全性
采用上照射设计 ,样品室可简单移出 ,再不用担心污染光路,清理麻烦和增加清理时间等问题。
固体、液体、粉末、合金和薄膜的元素分析 :
溅射靶材组成 .
隔离膜: SiO 2 、BPSG、 PSG 、 AsSG 、 Si₃N₄ 、 SiOF 、 SiON 等。
高k 和铁电介质薄膜: PZT、 BST 、 SBT 、 Ta2O5 、 HfSiOx
金属薄膜: Al-Cu-Si、 W 、 TiW 、 Co 、 TiN 、 TaN 、 Ta-Al 、 Ir 、 Pt 、 Ru 、 Au 、 Ni 等。
电膜:掺杂多晶硅(掺杂剂: B、 N 、 O 、 P 、 As )、非晶硅 、WSix、 Pt 等。
其他掺杂薄膜( As、 P )、困惰性气体( Ne、 Ar 、 Kr 等)、 C( DLC )
铁电薄膜、 FRAM、 MRAM 、 GMR 、 TMR ; PCM 、 GST 、 GeTe
焊料凸点成分 :SnAg、 SnAgCuNi
MEMS: ZnO 、 AlN 、 PZT 的厚度和成分
SAW 器件工艺 :AlN、 ZnO 、 ZnS 、 SiO 2 (压电薄膜)的厚度和成分; Al、 AlCu 、 AlSc 、 AlTi (电膜)
大样本分析 : 大 400 毫米(直径) , 大 50 毫米(厚度) , 高达 30 千克 (质量)
样品适配器系统 , 适用于各种样本量
测量点 : 30 毫米至 0.5 毫米直径 , 5 步自动选择
映射能力 , 允许多点测量
样品视图相机( 可选 )
分析 范围 : Be - U
元素范围: ppm 至 %
厚度范围: sub Å 至 mm
衍射干扰抑制( 可选 ) : 单晶衬底的准确结果
符合行业标准 : SEMI、 C E标志
占地面积小 , 以型号的 50% 占地面积
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