QSG 750-II单基体或多基体模型非常适合要求尽可能低的检测限、高的重现性和有关分析物的额外冶金信息的所有应用。应用范围从钢铁厂或其他冶炼厂等初级生产商到金属加工公司,再到研究机构和大学。
QSG 750-II 与 QSN 750-II主要区别在于数据记录系统,该系统基于 OBLF 开发的 GISS 技术(Gated Integration of Single Sparks)。在尺寸相同的情况下,它还配备了久经考验的硬件组件,例如温度稳定的 750 毫米真空光学元件、具有可自由定义参数的门控数字源 (GDS) 技术以及获得自清洁火花架。排气过滤器可确保清除消耗的氩气。所有关键设备部件的轻松可访问性简化了需要由用户执行的服务任务。