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万喜堂彩票 小型直流式磁控溅射仪：水冷式溅射源，可实现高功率持续运行，有电压 电流反馈,样品台旋转，样品高度调节，及电动挡板功能。通过定时调节预溅射功率及薄膜沉积功率，可对大部分金属进行均匀物理沉积，真空腔室为透明石英玻璃减少样品污染，样品台可旋转以获得更均匀的薄膜，可制备各种金属薄膜。
万喜堂彩票 小型直流式磁控溅射仪：KT-Z1650PVD 水冷式溅射源，可实现高功率持续运行，有电压 电流反馈,样品台旋转，样品高度调节，及电动挡板功能。通过定时调节预溅射功率及薄膜沉积功率，可对大部分金属进行均匀物理沉积，真空腔室为透明石英玻璃减少样品污染，样品台可旋转以获得更均匀的薄膜，可制备各种金属薄膜。
电子在电场的作用下加速飞向基片的过程中与氩原子发生碰撞，电离出大量的氩离子和电子，电子飞向基片。氩离子在电场的作用下加速轰击靶材，溅射出大量的靶材原子，呈中性的靶原子（或分子）沉积在基片上成膜。二次电子在加速飞向基片的过程中受到磁场洛伦兹力的影响，被束缚在靠近靶面的等离子体区域内，该区域内等离子体密度很高，二次电子在磁场的作用下围绕靶面作圆周运动，该电子的运动路径很长。
万喜堂彩票 小型直流式磁控溅射仪 KT-Z1650PVD厂家供应 技术参数；
| 控制方式 | 7寸人机界面 手动 自动模式切换控制 |
| 溅射电源 | 直流溅射电源 |
| 镀膜功能 | 0-999秒 5 段可变换功率及挡板位和样品速度程序 |
| 功率 | ≤1000W |
| 输出电压电流 | 电压 ≤1000V 电流 ≤1A |
| 真空 | 机械泵 ≤5Pa （ 5 分钟） 分子泵 ≤5*10^-3Pa |
| 溅射真空 | ≤30Pa |
| 挡板类型 | 电控 |
| 真空腔室 | 石英+不锈钢腔体 φ160mm x 170mm |
| 样品台 | 可旋转 φ62 （可安装 φ50 基底） |
| 样品台转速 | 8转 / 分钟 |
| 样品溅射源调节距离 | 40-105mm |
| 真空测量 | 皮拉尼真空计（已安装 测量范围10E5Pa 1E-1Pa） |
| 预留真空接口 | KF25抽气口 KF16 放气口 6mm 卡套进气口
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