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一、去离子超纯水设备概述：

早在 90 年代 EDI 系统就被应用在纯水系统中，但由于初期价格昂贵、技术不成熟，以至无法*取代传统的离子交换系统。近年来，本公司与国外公 司合作，一直致力于该产品在实际中的应用技术研究，目前已对 EDI 系统的运用技术掌握的相当成熟，同时由于产量的上升，使得价格大幅降低，另外，由于系统 据有高纯度、水质稳定、占地空间小、无需药品再生、无废水排放、操作简单、管理方便等优点，用 EDI 系统替代传统的离子交换系统，是水处理发展的必然趋 势。

公司具备专业的技术指导及安装队伍，可以满足各行各业的标准，进行水处理设备设计、指导、安装及培训，如电子、制药和半导体行业的等。
半导体、集成电路芯片及封装、液晶显示、高精度线路板、光电器件、各种电子器件、微电子工业、大规模、超大规模集成电路需用大量的高纯水、超纯水清洗半成 品、成品。集成电路的集成度越高，对水质的要求也越高。目前我国电子工业部把电子级水质技术分为五个行业标准，分别为 18 兆欧、 15M Ω.cm 、 10MΩ.cm 、 2M Ω.cm 、 0.5M Ω.cm ，以区分不同水质。

EDI系统 与 混合离子交换器 都是一样的作用，作为超纯水制造的*。由于现代经济高速发展，对环境水平要求也越来越严，对设备的自动化要求也越来越高。 EDI 系统取代混床将是趋势所在。

电再生混床（ EDI 系统）是水处理技术上一次革命性的发明。利用膜块两端电压使水中的带电离子移动，并配合离子交换树脂及选择性树脂膜，以加速离子 移动去除，进而达到水的纯化。而离子交换树脂再生所需的氢根（ H+ ）及氢氧根（ OH- ）则来自于高压电下有水中解离所供给，这样就无需用酸、碱来进行再生 还原

二、去离子超纯水设备工艺流程：
( 水质达到美国 ASTM 标准，电子部超纯水水质标准（ 18M Ω/cm ， 15M Ω/cm ， 2 兆欧 / 厘米和 0.5 兆欧四级 ) 。 -
◆ 原水 → 原水箱 → 原水泵 → 砂过滤器 → 碳过滤器 → 软化过滤器 → 高压泵 → 保安过滤器 → 反渗透装置 → 中间水箱 → EDI 增压泵 → EDI 装置 → 精密过滤器 → 用水点
◆ 源水 → 源水储水箱 → 增压泵 → 机械过滤器 → 活性炭过滤罐 → 阻垢系统 → 主机泵 → 不锈钢保安过滤器 → 反渗透设备－中间水箱－混床增压泵－阴阳离子交换混床－纯化水箱－核级混床增压泵 → 精制核能级混床 → 紫外线杀菌器 → 0.22U 精密过滤器－用水点
◆ 原水箱 → 原水增压泵 → 多介质过滤器 → 铁锰过滤器 → 软化水设备 → 反渗透精密过滤器 → 一级主机泵 → 一级反渗透净化水装置 → 二级主机泵 → 二级反渗透净化水装置 → 纯水箱－ EDI 增压泵 → EDI 高纯水装置 → 紫外线杀菌器－ 0.22 或 0.5 μ m 精密过滤器 ( 或称保安过滤器 ) －用水点

三、去离子超纯水设备特点：
  1 、高纯度效能、水质稳定；
  2 、运行成本低，操作简单及维护方便；
  3 、连续运行及再生，可 24 小时不间断供水；
  4 、无废水处理问题、无需药品再生及无药品储存问题；

四、去离子超纯水设备产水特性：

产水水质＞ 16MΩ-cm 回收率 : 90%-95%

五、去离子超纯水设备进水要求：

  TEA( 含 CO2) ＜ 25mg/L as CaCO3      PH   5-9

硬度 ＜ 1mg/L as CaCO3 硅 ＜ 1mg/L

  TOC ＜ 0.5mg/L 余氯 ＜ 0.05mg/L

六、去离子超纯水设备应用范围：

医药行业生化制品、生命科学，电子行业芯片、半导体、显像管制程用水等需要高纯水的场合。
小水滴水处理公司有雄厚的生产、库存基地，拥有大批专业的工程技术人员，可根据用户实际应用情况，设计制造出相应的 EDI 系统。