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  • 公司名称兰贝石(北京)科技有限公司
  • 品       牌
  • 型       号150LCSD-10
  • 所  在  地
  • 厂商性质其他
  • 更新时间2022/10/23 12:26:18
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北京兰贝石恒温技术有限公司成立于2008年,地处北京中关村生命科学园,致力于温湿度技术的研发和服务。公司生产药品稳定性试验箱、恒温恒湿箱、步入恒温恒湿试验房、培养箱和保存箱等环境试验设备,引进德国*技术,采用优质零部件,性能稳定可靠。兰贝石为两千多家企业提供产品及服务,出口美国、英国等五十多个国家和地区。 公司背靠科研院所,发挥自身人才优势,不断将成果应用于产品中,由研究员和热工博士的研发团队,始终认真严谨;公司拥有自建标准厂房、标准测试实验室及钣金加工设备,下辖江苏兰贝石、广州兰贝石、成都兰贝石三家子公司。 特别感谢、同仁堂集团、颈复康集团、哈药集团、广药集团、石药集团、国药集团、辅仁集团、振东集团、同联集团、海药集团、华润三九、通化东宝、海南双成、科伦药业、海王生物、人福药业、利泰制药、常山生化、方圆制药、辰欣药业、以岭药业、北京大学、清华大学、史达德、舒泰神、凯莱英等众多单位长期以来的大力支持和帮助。 关乎生命健康的事业,惟有努力进取,丝毫不可懈怠!
Labonce-LCSD系列综合药品稳定性试验箱,采用优质部件及制造工艺,性能稳定可靠,具备温度、湿度、光照三种功能,带可见光传感器,可记录和存储温度、湿度、可见光值。
皮耶罗官网 产品信息

Labonce-LCSD系列综合药品稳定性试验箱 ,采用优质部件及制造工艺,性能稳定可靠,具备温度、湿度、光照三种功能,带可见光传感器,可记录和存储温度、湿度、可见光值。

内部 容积 : 150 L~1000L;

控温范围 :      15 65 控温波动 : ± 0.5 温度偏差 : ± 2.0

控湿范围 :      20 95%RH 控湿波动 : ± 3.0 %RH 湿度偏差 : ± 3.0 %RH

光照范围: 100 ~ 8000LUX ;  4500±500LUX;

紫外 范围 : 近紫外 范围 : 0.84  5w/m² 近紫外能量不低于 200w•hr/m²

紫外波长 : 近紫外波长 : 320 ~400nm

光照记录: 配可见光、近紫外传感器,照度直接显示,配照度存储和打印系统

温湿控制器 : 数显表控制器,感应灵敏,系统误差小

湿度传感器 : 电容式湿度传感器 , 直接检测 , 无需维护;

制冷压缩机 : 全封闭压缩机 , 长寿命 , 低噪音;

数据打印 :      具备符合GMP要求的数据采集系统,标配针式打印机

数据存储 :      U盘存储, 能存储 年以上温度湿度值;

现场报警 : 现场温湿度偏差声光报警 , 独立超温报警;

箱体材质 :      内胆材质为 镜面不锈钢 304, 外壳材质为优质钢板喷塑

双重保护 :      配置双保险 防干烧保护系统;配置独立超温保护系统,可自动切断电源
安全装置:      压缩机过热保护、压缩机超压保护、压缩机过载保护和风机过热保护。

工作环境: 5~35℃;

安装电源:      AC 220V ±10% 50HZ;

远程报警 :  可选配 远程手机短信报警 ( 带温湿度偏差报警,断电报警 )

特别说明:      在线咨询下方的 PDF和WORD图标 ,可下载本页面的彩页相关资料  ,产品 图片仅供参考, 部分配置不同以实际到货设备为准。


型号

控温范围

(℃ )

控湿范围

(RH)

容 积

(L)

内胆尺寸 (mm)

W×D×H

外 形 尺 寸 (mm)

W×D×H

功率

(kw)

搁板

 ( 标配 )

备注

Labonce-150LC SD

15 65

20 95%

150

600×405×620

760×830×1480

1.2

3

低湿

Labonce-250LC SD

15 65

20 95%

250

600×500×830

760×870×1650

1.5

3

低湿

Labonce-400LC SD

15 65

20 95%

400

600×700×950

760×1060×1750

2.0

3

低湿

Labonce-500LC SD

15 65

20 95%

500

680×680×1080

840×1050×1850

2.2

4

低湿

Labonce-720LC SD

15 65

20 95%

800

1200×490×1360

13560×850×1960

2.5

4

低湿

Labonce-1000L C SD

15 65

20 95%

1000

1400×510×1400

1550×870×1980

3.0

4

低湿

特别说明 :设备运行 40 ℃/25%RH或 25 ℃/90%RH及更加极限的条件时,要求环境温度控制低于26

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