蔡司Gemini电子光学镜筒具有以下三个主要特点
蔡司Gemini物镜的设计结合了静电场和磁场,在提高其电子光学性能的同时将它们对样品的影响降至更低。无漏磁物镜设计,可以对如磁性材料等高挑战的样品同样地进行高品质成像;
蔡司Gemini电子束推进器技术,让电子束经过加速后以高电压通过镜筒,最终再减速至设定电压后进入样品仓,很大程度地减小电子束的像差,确保在非常低的加速电压下仍可获得小束斑和高信噪比;
蔡司Gemini 镜筒的设计理念将Inlens二次电子(SE)和背散射电子(BSE)探测器均放置在镜筒内正光轴上,使两者均具有更高的信号采集效率且可以同时成像,有效的缩短了获取图像的时间,更好地提高工作效率。
蔡司Gemini技术优势能为您提供以下便利:
经校准后的镜筒具有长期的稳定性,您在日常使用时只需要简易地设定基本的参数,如加速电压、探针电流等;
无漏磁的物镜设计,可对包括磁性样品在内的各类型样品进行无畸变、高分辨率的成像;
Inlens二次电子探测器具有高效的SE 1信号采集效率,给您呈现来自样品极表面的真实形貌图像;
镜筒内能量过滤背散射探测器以其创新的设计理念,使您在低电压下可获得高分辨率、高衬度、以及更真实的样品材料衬度图像。