功能丰富 实时交流
移动端访问更便捷
订阅获取更多服务
关注获取更多资讯
实时接收采购订单
光刻机介绍
曝光装置MA-1200基板 追大尺寸 200 x 200mm ø4″ ~ ø6″
光源超高压水银灯 :500W or 1kW
曝光装置MA-1400基板 追大尺寸 400 x 400mm
光源 超高压水银灯 : 2kW or 3.5kW
LED,LN曝光装置MA-4000 圆晶尺寸Ø2~4″或者Ø4~6″
光源超高压汞灯:500W 或 1kW
Ø200mm/Ø150 mm 对应曝光装置MA-4301M 材料SI 玻璃,对齐精度 自动对齐:+/- 1 μm(
峰值搜索)
Ø300 mm对应曝光装置MA-5301ML光源 超高压汞灯:3.5kWØ200mm规格也可对应
マスクレス露光装置MX-1201曝光扫描速度 43.94 mm/s有效曝光区域 200 x 200追大曝光量(※3)245/70/245+70
マスクレス露光装置 MX-1201E 曝光扫描速度22.5mm/s 有效曝光区域200 x 200 追大曝光量(※3)460/70135
型式 | MX-1201 | MX-1201E | MX-1205 | |||||
---|---|---|---|---|---|---|---|---|
*小线幅 (※1) | [μm] | 5 | 3 | 2 | 1 | |||
数据分辨率 | [μm] | 0.488 | 0.25 | 0.1 | 0.05 | |||
*大基板尺寸 | [mm] | 200 x 200 | 200 x 200 | 100 x 100 | ||||
有效曝光范围 | [mm] | 200 x 200 | 200 x 200 | 100 x 100 | ||||
激光主波长 | [nm] | 405 | 375 | 405 + 375 | 405 | 375 | 375 | |
曝光扫描速度 | [mm/s] | 43.94 | 22.5 | 9 | 4.5 | |||
节拍时间 | [s,min] | 180 [s] | 320 [s] | 16 [min] | 27 [min] | |||
*大曝光量 | [mJ/c㎡] | 245 | 70 | 245 + 70 | 460 | 135 | 50 | 100 |
*您想获取产品的资料:
个人信息: