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更新时间：2022-10-17 13:10:04 浏览次数：222次

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经营模式：其他

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产品简介

万喜堂彩票注册开户 Photomask clean 清洗机

详细介绍

适应方形基片尺寸：8×8inch基片 用途：可用于掩膜版表面污染物的清除。
清洗方式：是由电机通过夹持机构带动掩膜板做离心式旋转。
配合常压水清洗
高压水清洗
兆声波清洗
毛刷（Brush）清洗
有机溶剂清洗等方式 作用 ：其中0.5微米以上颗粒的去除率接近99%。
再小于的颗粒去除率 可根据客户要求提供技术指标。

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