光刻机介绍
曝光装置MA-1200基板 追大尺寸 200 x 200mm ø4″ ～ ø6″
光源超高压水银灯 ：500W or 1kW
曝光装置MA-1400基板 追大尺寸 400 x 400mm
光源 超高压水银灯 ： 2kW or 3.5kW
LED,LN曝光装置MA-4000 圆晶尺寸Ø2～4″或者Ø4～6″
光源超高压汞灯：500W 或 1kW
Ø200mm/Ø150 mm 对应曝光装置 MA-4301M 材料SI 玻璃，对齐精度 自动对齐：+/- 1 μm（
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Ø300 mm对应曝光装置MA-5301ML光源 超高压汞灯：3.5kWØ200mm规格也可对应
マスクレス露光装置MX-1201曝光扫描速度 43.94 mm/s有效曝光区域 200 x 200追大曝光量（※3）245/70/245+70
マスクレス露光装置 MX-1201E 曝光扫描速度22.5mm/s 有效曝光区域200 x 200 追大曝光量（※3）460/70135
マスクレス露光装置 MX-1205 曝光扫描速度9/4.5mm/s 有效曝光区域100 x 100 追大曝光量（※3）100/50
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| | MA-5301ML |
| Wafer尺寸 | Ø300ｍｍ |
| 对位 | 非接触预对位～自动对位 |
| 光源 | 超高压水银灯：3.5kW |
| 本体尺寸 | W 2450 × D 2400 × H 2300 mm |
= 
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