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  • 日本DNK科研曝光机MA-1200光刻机

    详细摘要: 简单介绍:产品信息实验・研究用曝光装置简练设计的手动式整面单次曝光装置。主要特长对应玻璃、Wafer、胶片等基材的实验研究用手动整面单次曝光机。也适合小批量生产...

    产品型号: 所在地: 更新时间:2023-07-26 在线留言

  • 日本DNK科研曝光机MA-1400光刻机

    详细摘要: 简单介绍:产品信息实验・研究用曝光装置简练设计的手动式整面单次曝光装置。主要特长对应玻璃、Wafer、胶片等基材的实验研究用手动整面单次曝光机。也适合小批量生产...

    产品型号: 所在地: 更新时间:2023-07-25 在线留言

  • 日本DNK科研曝光机MA-4000光刻机

    详细摘要: 简单介绍:主要特长采用独自的平行调整机构,能够高精度地设定掩膜与Wafer间的近接间隙。利用独自的高速图像处理技术,实现高精度的对位。利用图像处理技术,使预对位...

    产品型号: 所在地: 更新时间:2023-07-24 在线留言

  • 日本DNK科研曝光机MA-4301M光刻机

    详细摘要: 简单介绍:主要特长利用本公司开创的高速图像处理技术, 实现了Wafer与掩膜的高精度对位。装载机侧和卸载机侧*多可设置两个篮具(选购项)。备有冷却机构,可进行基...

    产品型号: 所在地: 更新时间:2023-07-23 在线留言

  • 日本DNK科研曝光机MA-5301ML光刻机

    详细摘要: 简单介绍:主要特长搭载本公司开创的镜面光学系统爆光灯房(LAMP HOUSE)。从而实现了照射面内的均匀性以及高照度。采用本公司开创的同轴对位方式和高速图像处理...

    产品型号: 所在地: 更新时间:2023-07-22 在线留言

  • 日本DNK科研曝光机MX-1201光刻机

    详细摘要: 简单介绍:主要特长能够用于研究开发、试作、小批量生产等的直描曝光。能够对应半导体、电子零件、优异PCB、高密度封装件、MEMS、FPD等的曝光。由于在光刻工艺中...

    产品型号: 所在地: 更新时间:2023-07-21 在线留言

  • 日本DNK科研曝光机MX-1201E光刻机

    详细摘要: 简单介绍:主要特长能够用于研究开发、试作、小批量生产等的直描曝光。能够对应半导体、电子零件、优异PCB、高密度封装件、MEMS、FPD等的曝光。由于在光刻工艺中...

    产品型号: 所在地: 更新时间:2023-07-20 在线留言

  • 日本DNK科研曝光机MX-1205光刻机

    详细摘要: 简单介绍:产品信息实验・研究用曝光装置简练设计的手动式整面单次曝光装置。主要特长对应玻璃、Wafer、胶片等基材的实验研究用手动整面单次曝光机。也适合小批量生产...

    产品型号: 所在地: 更新时间:2023-07-17 在线留言

  • 日本DNK科研曝光机MEMS用光刻机

    详细摘要: 简单介绍:主要特长采用独自的镜面・镜头光学系统,实现**均匀的照射。配备有可设定非接触・面内均一间隙的间隙传感器和对应多层曝光的显微镜、X・Y・θ轴对位台的对位...

    产品型号: 所在地: 更新时间:2023-07-16 在线留言

  • 日本DNK科研曝光机光刻机圆晶

    详细摘要: 简单介绍:主要特长除近接曝光外,还可对应接触曝光(软接触和硬接触)可对应幅度为500mm以上的大型胶片。采用独自的光学系统,可选择单面曝光或双面曝光。还能进行一...

    产品型号: 所在地: 更新时间:2023-07-15 在线留言

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