光刻机介绍
曝光装置MA-1200基板 追大尺寸 200 x 200mm ø4″ ~ ø6″
光源超高压水银灯 :500W or 1kW
曝光装置MA-1400基板 追大尺寸 400 x 400mm
光源 超高压水银灯 : 2kW or 3.5kW
LED,LN曝光装置MA-4000 圆晶尺寸Ø2~4″或者Ø4~6″
光源超高压汞灯:500W 或 1kW
Ø200mm/Ø150 mm 对应曝光装置MA-4301M 材料SI 玻璃,对齐精度 自动对齐:+/- 1 μm(
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Ø300 mm对应曝光装置MA-5301ML光源 超高压汞灯:3.5kWØ200mm规格也可对应
マスクレス露光装置MX-1201曝光扫描速度 43.94 mm/s有效曝光区域 200 x 200追大曝光量(※3)245/70/245+70
マスクレス露光装置 MX-1201E 曝光扫描速度22.5mm/s 有效曝光区域200 x 200 追大曝光量(※3)460/70135
マスクレス露光装置 MX-1205 曝光扫描速度9/4.5mm/s 有效曝光区域100 x 100 追大曝光量(※3)100/50
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MA-1200、MA-1400
| MA-1200 | MA-1400 |
基板尺寸 | 追大 200 x 200mm ø4″ ~ ø6″ | 追大 400 x 400mm |
光源 | 超高压水银灯 :500W or 1kW | 超高压水银灯 :2kW or 3.5kW |
外观尺寸及重量 | 本体尺寸 | W1240 x D1100 x H1725 mm | W1440 x D1590 x H1882 mm |
本体重量 | 400kg | 400kg(包含无尘机房) |
光源重量 | - | 250kg |
选购项 | 无尘机房、背面对位、硬接触(真空密着式)、自动对位、对应破碎基板等特殊尺寸(需商洽)。 |
※基板尺寸和水银灯瓦数及特殊规格可商洽