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产品型号

品       牌

厂商性质其他

所  在  地 深圳市

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更新时间：2024-04-01 07:49:33 浏览次数：211次

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经营模式：其他

商铺产品：51条

所在地区：

联系人：林经理

产品简介

特点：• 用于消除电子束曝光、SEM成像、FIB等工艺中的荷电效应• 通过旋涂的方式涂胶，操作简单• 涂胶厚度：40nm @ 4000rpm• 电子束曝光后可溶于水，非常容易去除，且不损伤衬底材料• 对紫外光、电子束不敏感，无需黄光室 5090.02，适于PMMA、CSAR 62、 HSQ等。

详细介绍

特点：


• 用于消除电子束曝光、SEM成像、FIB等工艺中的荷电效应

• 通过旋涂的方式涂胶，操作简单

• 涂胶厚度：40nm @ 4000rpm

• 电子束曝光后可溶于水，非常容易去除，且不损伤衬底材料

• 对紫外光、电子束不敏感，无需黄光室

5090.02，适于PMMA、CSAR 62、 HSQ等；

5091.02，适于酚醛树脂基电子束光刻胶，如AR-N 7520



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