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详细摘要： 1600℃真空/气氛管式炉CVD系统（CVD-TF），提供具有真空、可控气氛及高温的实验环境，应用在半导体、纳米技术、等纤维等领域，此款CVD生长系统适用于CV...
产品型号： 所在地： 更新时间：2024-02-10 在线留言
详细摘要： 此CVD系统适用于CVD工艺，如碳化硅镀膜、陶瓷基片导电率测试、ZnO纳米结构的可控生长、陶瓷电容（MLCC）气氛烧结等实验。优点炉膛采用多晶莫来纤维真空吸附制...
产品型号：CVD-TF14P40/50/60/80 CVD-TF14T40/50/60/80 所在地： 更新时间：2024-02-08 在线留言
详细摘要： 此款CVD生长系统适用于CVD工艺，如碳化硅镀膜、陶瓷基片导电率测试、ZnO纳米结构的可控生长、陶瓷电容（MLCC）气氛烧结等实验。优点炉膛采用多晶莫来纤维真空...
产品型号： 所在地： 更新时间：2024-02-06 在线留言
详细摘要： 天津泰斯特，1200℃开启式真空/气氛管式炉（TF）系列低配版，提供具有真空、可控气氛及高温的实验环境，应用在半导体、纳米技术、碳纤维等领域优点气路连接方式采用...
产品型号： 所在地： 更新时间：2024-02-04 在线留言
详细摘要： 天津泰斯特，1600℃真空/气氛管式炉（TF）系列，提供具有真空、可控气氛及高温的实验环境，应用在半导体、纳米技术、碳纤维等领域，使用温度范围 300～1600...
产品型号： 所在地： 更新时间：2024-02-02 在线留言
详细摘要： 天津泰斯特，1200°开启式真空/气氛管式炉（TF），提供具有真空、可控气氛及高温的实验环境，应用在半导体、纳米技术、碳纤维等领域优点气路连接方式采用快速连接法...
产品型号： 所在地： 更新时间：2024-01-30 在线留言
详细摘要： 陶瓷纤维马弗炉（MF1200℃)系列，精确控制的1200℃以内烧结、融化、元素分析、物理测定。使用温度范围 300～1200℃ 温度分布精度 ±1...
产品型号： 所在地： 更新时间：2023-01-24 在线留言
详细摘要： 天津泰斯特，陶瓷纤维马弗炉（MF1000℃)系列，精确控制的1000℃以内烧结、融化、元素分析、物理测定，使用温度范围 300～1000℃ 温度分布精度 &pl...
产品型号： 所在地： 更新时间：2023-01-24 在线留言
详细摘要： 天津泰斯特，陶瓷纤维马弗炉（MFLC1800℃）系列，精确控制的1800℃以内烧结、融化、元素分析、物理测定，使用温度范围 300～1800℃ 温度分布精度 &...
产品型号： 所在地： 更新时间：2023-01-24 在线留言
详细摘要： 天津泰斯特，陶瓷纤维马弗炉（MFLC1700℃），精确控制的1700℃以内烧结、融化、元素分析、物理测定，使用温度范围 300～1700℃ 温度分布精度 &pl...
产品型号： 所在地： 更新时间：2023-01-24 在线留言
详细摘要： 天津泰斯特，陶瓷纤维马弗炉（MFLC1600℃)，精确控制的1600℃以内烧结、融化、元素分析、物理测定优点一体化设计，结构轻巧紧凑。真空成型多晶莫来石纤维炉膛...
产品型号： 所在地： 更新时间：2023-01-23 在线留言
详细摘要： 天津泰斯特，陶瓷纤维马弗炉（MFLC1400)，精确控制的1400℃以内烧结、融化、元素分析、物理测定。优点一体化设计，结构轻巧紧凑。真空成型多晶莫来石纤维炉膛...
产品型号： 所在地： 更新时间：2023-01-23 在线留言
详细摘要： 天津泰斯特，陶瓷纤维马弗炉（MFLC1300℃）系列，泰斯特出品，精确控制的1300℃以内烧结、融化、元素分析、物理测定优点一体化设计，结构轻巧紧凑。真空成型多...
产品型号： 所在地： 更新时间：2023-01-23 在线留言
详细摘要： 天津泰斯特，陶瓷纤维马弗炉（MFLC1200℃)系列，使用温度范围 300～1200℃ 温度分布精度 ±1℃ 内容积 2L 7L 16L 24L ...
产品型号： 所在地： 更新时间：2023-01-23 在线留言您感兴趣的产品 PRODUCTS YOU ARE INTERESTED IN
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