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RTEPLASMA等离子去胶机适用于硅基材料的晶圆表面去胶的清洗设备，也可用于光刻胶去除，碳化硅刻蚀，硬掩膜层干法清除，刻蚀后表面清洁，氧化硅或氮化硅刻蚀
RTE PLASMA等离子去胶机适用于硅基材料的晶圆表面去胶的清洗设备，也可用于光刻胶去除，碳化硅刻蚀，硬掩膜层干法清除，刻蚀后表面清洁，氧化硅或氮化硅刻蚀。
碳化硅刻蚀
硬掩膜层干法清除
表面残留物清除
氧化硅或氮化硅刻蚀
刻蚀后表面清洁
| 自动化程度 | 手动 |
| PLASMA电源 | RF |
| 尺寸（L*W*H） | 850*900*1850mm |
| 适用范围 | 4-8寸 |
| 单次处理片数 | 1 |
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