万喜堂彩票app下载中心 双面曝光曝光机

光罩真空吸盘: 4"，5" 或 6"下吸式

晶圆真空吸盘: 破片2"，3"，4" 或5"

具光罩与晶圆平行面校正功能，

晶圆真空吸盘可前后左右调整约10mm，调整灵敏度1um

旋转调整约5度，调整灵敏度0.001度

Z轴可调整约3mm， 调整灵敏度1um

Z轴具千分表可显示光罩与晶圆间距，Z轴可设定对准与曝光两种间隙，可调整接触真空吸附力大小

曝光模式有Vacuum contact，Soft contact，Proximity 人工置放晶片与调整晶片位置，取放晶圆时光罩吸盘以手开启 。

人工置放晶片与调整晶片位置，取放晶圆时光罩吸盘以手开启。