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  • 公司名称北京一测精密仪器有限公司
  • 品       牌
  • 型       号
  • 所  在  地北京市
  • 厂商性质其他
  • 更新时间2024/6/14 11:29:08
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蔡司是专业的三坐标测量机生产商,是三坐标测量技术的和奠基者,致力于为工业制造领域及测量实验室的多维测量需要提供专业的测量解决方案。产品包含了通用的桥式测量机、悬臂式测量机、在线测量机,以及测量前沿技术的多功能工业CT测量机、复合式测量中心和纳米级测量机。蔡司不仅在测量技术的科研上取得了世界瞩目的成就,其所有的主要部件,如控制柜、软件、传感器、探针等均为蔡司独立研发生产,确保了产品高品质和高性能的传承。蔡司工业测量解决方案在拥有三个生产基地,分别位于德国总部的奥伯科亨,美国明尼阿波利斯和中国上海,以及32个销售服务中心服务于世界各地。其中中国上海所生产的产品主要供应东南亚市场。蔡司以不断追 求技术创新的企业精神以及严谨、踏实的企业作风使得其成为世界专业制造企业保证产品质量的可靠供应商,在中市场占有重要地位,成为三坐标技术发展的风向标。目前拥有三分之一的。北京,天津,河北,山东,河南,蔡司经销商--北京一测精密仪器有限公司产品包括:蔡司三坐标,三坐标测量机,蔡司工业CT,工业CT,三维扫描仪,3D扫描仪,蔡司金相显微镜,蔡司显微镜,蔡司扫描电镜,蔡司SPECTRUM,蔡司CONTURA,蔡司DURAMAX,蔡司PRISMO,蔡司MICURA等。蔡司工业测量解决方案核心产品:桥式三坐标测量机、在线式测量机、光学测量系统、三维扫描仪、大型龙门式高精度三坐标测量机、悬臂式三坐标测量机、计量型工业CT、显微镜、扫描电镜、三坐标配件、三坐标维护保养。
探针抄数机
新大陆娱乐平台有哪些平台用于高品质成像与高级分析的场发射扫描电子显微镜,灵活的探测,4步工作流程,高级的分析性能,将高级的分析性能与场发射扫描技术相结合,利用成熟的Gemini电子光学元件
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蔡司扫描电镜Sigma300电子扫描显微镜用于高品质成像与高级分析的场发射扫描电子显微镜,灵活的探测,4步工作流程,高级的分析性能,将高级的分析性能与场发射扫描技术相结合,利用成熟的 Gemini 电子光学元件。多种探测器可选:用于颗粒、表面或者纳米结构成像。Sigma 半自动的4步工作流程节省大量的时间:设置成像与分析步骤,提高效率。

蔡司扫描电镜Sigma300性价比高。Sigma 500 装配有的背散射几何探测器,可快速方便地实现基础分析。任何时间,任何样品均可获得精准可重复的分析结果。

Sigma300电子扫描显微镜产品特点:
用于清晰成像的灵活探测
利用探测术为您的需求定制 Sigma,表征所有样品。
利用 in-lens 双探测器获取形貌和成份信息。
利用新一代的二次探测器,获取高达50%的信号图像。在可变压力模式下利用 Sigma 创新的 C2D 和 可变压力探测器,在低真空环境下获取高达85%对比度的锐利的图像。
自动化加速工作流程
4步工作流程让您控制 Sigma 的所有功能。在多用户环境中,从快速成像和节省培训首先,先对样品进行导航,然后设置成像条件。
首先,先对样品进行导航,然后设置成像条件。
接下来对样品感兴趣的区域进行优化并自动采集图像。最后使用工作流程的步,将结果可视化。
高级分析型显微镜
将扫描电子显微镜与基本分析相结合:Sigma 的背散射几何探测器大大提升了分析性能,特别是对电子束敏感的样品。
在一半的检测束流和两倍的速度条件下获取分析数据。
获益于8.5 mm 短的分析工作距离和35°夹角,获取完整且无阴影的分析结果。

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Sigma300电子扫描显微镜产品参数:
分辨率: 1.2nm @15 kV   2.2nm @1kV
放大倍数:10-1,000,000×
加速电压:调整范围:0.02-30 kV(无需减速模式实现)
探针电流: 4pA-20nA (40nA&100nA可选)
低真空范围: 2-133Pa (Sigma 300VP可用)
样品室: 365 mm(φ),275mm(h)
样品台:5轴优中心全自动
X=125mm
Y=125 mm
Z=50 mm
T=-10o-90o
R=360o 连续
系统控制:基于Windows 7的SmartSEM操作系统,可选鼠标、键盘、控制面板控制。

蔡司扫描电镜Sigma300产品应用领域:
扫描电镜(SEM)广泛地应用于金属材料(钢铁、冶金、有色、机械加工)和非金属材料(化学、化工、石油、地质矿物学、橡胶、纺织、水泥、玻璃纤维)等 检验和研究。在材料科学研究、金属材料、陶瓷材料、半导体材料、化学材料等领域进行材料的微观形貌、组织、成分分析,各种材料的形貌组织观察,材料断口分   析和失效分析,材料实时微区成分分析,元素定量、定性成分分析,快速的多元素面扫描和线扫描分布测量,晶体、晶粒的相鉴定,晶粒尺寸、形状分析,晶体、晶 粒取向测量。
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