狮子会会费每年都要交吗

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ITO 是一种N型氧化物半导体-氧化铟锡,ITO薄膜即铟锡氧化物半导体透明导电膜，通常有两个性能指标：电阻率和透光率。

在氧化物导电膜中，以掺Sn的In2O3(ITO)膜的透过率zui高和导电性能，而且容易在酸液中蚀刻出细微的图形，其中透光率达90%以上。ITO中其透光率和阻值分别由In2O3与SnO2之比例来控制，通常SnO2:In2O3=1:9。

目前ITO膜层之电阻率一般在5*10E-4左右，可达5*10E-5，已接近金属的电阻率，在实际应用时，常以方块电阻来表征ITO的导电性能，其透过率则可达90%以上，ITO膜之透过率和阻值分别由In2O3与SnO2之比例控制，增加氧化铟比例则可提高ITO之透过率，通常SnO2: In2O3=1:9，因为氧化锡之厚度超过200Å时，通常透明度已不够好---虽然导电性能很好。

高速分散机是相对于低转速的分散设备来讲的，高速管线式分散机有着超高的剪切转速，zui高转速可达14000rpm，比传统的分散设备更高效！

材料达到纳米尺度以后会表现出很多.. 纳米尺寸效应.., 以零维的微观颗粒来讲, 当颗粒尺寸达到纳米尺度以后, 其团聚效应显x增加, 团聚体内颗粒的相互吸引力也显x增大, 分散难度变大。传统的分散机对纳米级*进行分散时，很难真正均匀将*分散开来。新的工艺方式是应用*分散机，高剪切分散机ERS2000系列进行分散。

*纳米氧化物极易产生自身的团聚，使得应有的性能难以充分发挥。此外，纳米氧化物的诸多奇异性能能否得到充分发挥，还取决于zui大限度降低粉体与介质间的表面张力。因此，纳米氧化物粉体必须均匀分散，充分打开其团聚体，才能发挥其应有的奇异性能。

高速分散机主要用于微乳液及超细悬浮液的生产。由于工作腔体内三组分散头（定子+转子）同时工作，乳液经过高剪切后，液滴更细腻，粒径分布更窄，因而生成的混合液稳定性更好。三组分散头均易于更换，适合不同的工艺应用。该系列中不同的型号的机器都有相同的线速度和剪切率，非常易于扩大生产。适宜的温度，压力与粘度参数与DISPGRSING一样。也符合CIP/SIP清洁标准，适合食品及医药生产。

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ERS2000系列产品与传统的设备对比

一、传统设备需要8小时的分散过程，ERS2000设备1小时就可以完成，更加高效、节能。

二、传统设备的搅拌转速每分钟几十转，带有分散功能的每分钟转速也在1500转之内，而IKN/依肯ERS2000系列每分钟转速可达到5000-6000转，更加快速。超高的线速度产生的剪切力，使物料瞬间细化分散，从而获得更高品质的产品。

ERS2000系列与同类设备的对比

一、发热问题。同类设备在加工过程中，高粘物料进入腔体后，因背压力大而输送效果差，导致物料在设备腔体中停留时间过长而导致严重发热。ERS2000系列设备在确保效果的基础上，减小了背压阻力，提高了输送能力，减少了停留时间，降低了物料发热的状况。

二、多层多向剪切分散。同类设备定、转子等部件结构单一，多级多层的结构只是单纯的重复性加工，相同的齿槽结构易发生物料未经分散便通过工作腔的短路现象。ERS2000系列定、转子结构采用多层多向剪切的概念，装配式结构使物料得到不同方向的剪切分散，杜绝短路现象，超细分散更加*。

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