高真空退火炉/高温介电 返回列表页

高真空退火炉

高真空退火炉/高温介电设备原理：

1. 辐射加热

红外镀金聚焦炉是利用高能量密度的红外光源作为加热源的辐射加热炉。炉体由铝合金制成，红外线反射面抛光，镀金，反高光。同时配置水冷装置。

2. 红外线灯

红外镀金聚焦炉是利用高能量密度的红外光源作为加热源的辐射加热炉。炉体由铝合金制成，红外线反射面抛光，镀金，反高光。同时配置水冷装置。

3. 反射光

反射镜是用高的精度曲率加工以提高反射率。反射镜有两种类型，一种是椭圆形的，另一种是抛物线型的，该模型rhl-e和vht-e系列有一个椭圆形反射器和适合的棒状样品加热，和其他模型：rhl-p,RHL PS和RHL PSS系列具有抛物线型反射器和适用于片状样品。

高真空退火炉/高温介电设备特点

1. 高速加热与冷却方式

高能量的红外灯和镀金反射镜允许高速加热到高温。同时体可配置水冷，增设气体冷却装置，可实现快速冷却。

2. 温度高的精度控制

通过红外镀金聚焦和温度控制器的组合使用，可以控制样品的温度。此外，冷却速度和保持在任何温度下可提供高的精度。

3. 清洁加热

反射镜是用高的精度曲率加工以提高反射率。反射镜有两种类型，一种是椭圆形的，另一种是抛物线型的，该模型rhl-e和vht-e系列有一个椭圆形反射器和适合的棒状样品加热，和其他模型：rhl-p,RHL PS和RHL PSS

4. 不同环境下的加热与冷却

高真空退火炉 加热/冷却可用真空、气氛环境，低温（高纯度惰性气体静态或流动），操作简单，使用石英玻璃制成。红外线可传送到加热/冷却室。

设备结构：

反射炉温度控制装置：

高速升温时，配套的快速反应的控制装置，本控制装置采用可编程温度控制器。高性能设计，响应速度快。

可选配置：

（ 1 ） 干栗：抽速彡 120 L / min , 极限真空度彡 4 pa , 噪音小于 52 db ;

（ 2 ） 全量程真空规：刀口法兰接口，真空测量范围 5 X 10 ^-7 Pa 到 1 atm ;

（ 3 ） 为了高速加热、设备采用 PID 温度控制，同时采用移相触发技术保证试验温度 ；

（ 4 ） 根据设备上的温度控制器输入参数，您也可以简单输入温度程序设定和外部信号。另外还 可以在电脑上显示热中的温度数据 ；

（ 5 ） 自适应热电偶包括 JIS 、 K 、 J 、 T 、 E 、 N 、 R 、 S 、 B 、 以及 L 、 U 、 W 型 ；

（ 6 ） 可设定32个程序、256个步骤的程序 ；

（7） 30 A 、60 A 、120 A 内置了 SCR 电路，所以范围很广。

更多应用：

样品腔内径：≥30mm；      退火炉外径：≤100mm